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没有EUV光刻机也能造出国产高端芯片中科院院士

发布时间:2021/12/23 点击量:

  由于尽人皆知的缘故原由,近两年来有关方面不竭加大对中国半导体财产的封闭力度。本来可以从外洋入口的中心质料或装备,受各种身分的影响今朝都处于禁售形态,比方EUV光刻机。

  公然材料显现,早些年第一大业余晶圆代工场中芯国际便从荷兰光刻机巨子阿斯麦处订购了一台极紫外光刻机,用于7nm及下列高精度芯片的制作。

  根据单方商定的工夫,2019年这台EUV光刻机就该当到货,可时至昔日阿斯麦方面连发货的迹象都没有。

  但这并不是阿斯麦不情愿将EUV光刻机卖给中国企业,而是阿斯麦遭到《瓦森纳协议》的限定,不被许可向中国市场出卖EUV光刻机。

  可这些装备没法满意高精度晶圆的制作需要,进一步招致中芯国际的芯片工艺精度持久停止在7nm下列。

  固然环球半导体行业大佬梁孟松博士,率领中芯国际开拓了一条新门路,操纵N+一、N+2手艺做成为了类7nm工艺,但久而久之也不是一个很好的处理法子。

  就在日前,中国迷信院院士针对这一近况给出了一个处理计划,没有EUV光刻机,也可以造出国产高端芯片。

  在克日召开的一个顶峰论坛上,中国迷信院院士刘明暗示:“短时间内我国没有法子拿到EUV光刻机,自研更是一个十分不睬想的成绩。但假如操纵先辈封装集成芯片,该当能够挣脱许多限定。”

  根据笔者的了解,刘明院士的意义是,我国能够绕开高精度制作装备,用先辈的封装手艺来完成芯片机能的提拔。

  尽人皆知,在芯片制程不竭微缩的后摩尔时期,传统的封装手艺也在不竭演进。无数据表白,划一工艺制程下,基于先辈封装手艺的集成电路的机能提拔幅度能够到达15%,这险些相称于一代工艺制程的前进。

  除了此以外,还无数据证实,晚期纯真依托制程微缩提拔机能的幅度高达52%;但跟着集成电路范畴行将面对物理极限,今朝处置芯片的机能提拔幅度只要3%阁下。

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  从这个角度来看,笔者以为中科院院士刘明的设法有些原理。假如在一个环节卡壳,那末无妨从其余环节找打破口,外洋科研院地点芯片质料方面的研讨探究就是一个标的目的。

  综合来看,上述能够性有些相似于弯道超车,但集成电路范畴真的有弯道超车吗?今朝来看,笔者以为没有,但将来有没有限能够,说不定我国可以从某个角度找到突破把持的办法。

  不外,以如今的情势来看,笔者以为脚浮躁地,在霸占现有中心手艺、研制现有中心装备的根底上搞立异、找标的目的才是正解。